目前，隨著光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)多晶硅的需求量也日趨增大。在多晶硅生產(chǎn)設(shè)備中，還原爐是整個(gè)生產(chǎn)系統(tǒng)的關(guān)鍵部件，多晶硅生產(chǎn)企業(yè)要實(shí)現(xiàn)節(jié)能降耗就必須嚴(yán)格把控還原爐的運(yùn)行。

眾所周知，對(duì)還原爐內(nèi)壁進(jìn)行清洗處理，就是降低能耗的一種有效的方式，通過(guò)提高還原爐內(nèi)壁光潔度及光亮度，使還原爐在硅棒生長(zhǎng)過(guò)程中，爐壁在高溫狀態(tài)下，對(duì)熱輻射反射率的最大化，從而起到降低能耗的作用。



德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)是以高壓清洗機(jī)為主機(jī)，以高壓水射流為動(dòng)力的自驅(qū)動(dòng)三維旋轉(zhuǎn)噴頭形成360°的網(wǎng)狀高壓水柱噴射表面，從而完成鐘罩內(nèi)部表面的水力掃射，并采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，之后再采用高純水沖洗，最終完成清洗過(guò)程。

一、工作流程

還原爐鐘罩到位—預(yù)清洗—清洗劑(堿液)清洗—漂洗—高純水沖洗—凈化熱空氣干燥—常溫干燥—鐘罩吊走。

二、系統(tǒng)特點(diǎn)

1、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用進(jìn)口高壓泵，耐酸堿、耐高溫。清洗作業(yè)時(shí)三維旋轉(zhuǎn)噴頭實(shí)現(xiàn)自驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)、自動(dòng)升降、全方位自動(dòng)清洗，保證多晶硅的純度；

2、設(shè)置10萬(wàn)級(jí)空氣凈化換熱裝置代替原氮?dú)怆娂訜岣稍镞�原爐體工藝；

3、自行研發(fā)設(shè)計(jì)的自驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)升降噴射機(jī)構(gòu)，一套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)還原爐鐘罩的清洗烘干；

4、由于清洗過(guò)程中會(huì)有氫氣和酸性物質(zhì)產(chǎn)生，德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染；

5、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)充分利用資源，設(shè)計(jì)了高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置，并進(jìn)行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序；利用多晶硅生產(chǎn)廠家的蒸汽余熱將清洗介質(zhì)加熱，從而改變?cè)�電加熱工藝�?br />
三、注意事項(xiàng)

多晶硅還原爐內(nèi)的殘留物及清洗液具有腐蝕性，同時(shí)清洗中殘留氯硅烷會(huì)發(fā)生水解伴有氫氣產(chǎn)生，容易產(chǎn)生爆鳴燃燒。因此，現(xiàn)場(chǎng)操作中，需要做好安全防護(hù)措施。



1、清洗過(guò)程中必須穿戴好勞保用品，戴防護(hù)手套；

2、用氫氧化鈉溶液擦洗基盤時(shí)操作要緩慢，以免摩擦生熱引起著火；

3、基盤清洗過(guò)程中要避免溶液流進(jìn)進(jìn)料管和尾氣管內(nèi)造成二次污染，德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染的問(wèn)題；

4、清洗中要保證將鐘罩烘烤干，避免有殘留水分；

5、清洗劑的選擇對(duì)清洗效果和作業(yè)安全有直接影響，這方面我公司積累了豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)解決閃爆等問(wèn)題。